- PICWave (ピックウェーブ）の特徴 -

フォトニック集積回路（PIC）設計ツールです。
高度なレーザーダイオードとSOAモデル、強力なフォトニック集積回路（PIC）の設計およびシミュレーションツールとして、
柔軟な設計フロー環境を提供します。

レーザーダイオードとフォトニック集積回路の設計機能の組み合わせにより、任意のレーザーダイオードの形状を、
パッシブコンポーネントとアクティブコンポーネントの両方を含むフォトニック回路として計算することが出来ます。

Photon design社のパートナーが提供するデザインキットを使用しデザインフローツールとしてPICの設計を行うことも可能で、
回路を組み立てた後、製造のために生産工場に提出する前に、PICWaveで回路全体をシミュレートすることが出来ます。

‣  Active Module：
様々タイプの増幅器（SOA）とレーザー、および変調器と光検出器のシミュレーションを可能にする詳細な物理モデルを提供し、
ファブリペロー、DFB、調整可能レーザー、リングレーザーなど、さまざまな種類のレーザーダイオードも使用できます。

‣  Electrical model
ダイオードIV特性、電流拡散、進行波（マイクロストリップ）効果、抵抗、インダクタ、コンデンサで構成される外部電気回路など、
アクティブなフォトニックコンポーネントの電気的側面を正確にモデル化するための機能を備えています。

‣  Laser Geometries
洗練されたSOAモデルと一般的な光回路機能によって、調整可能なレーザーや外部キャビティデバイスを含む、
考えられるほぼすべての半導体レーザーの形状をモデル化することが出来ます。

‣  Analysis
- 光学スペクトル（光学位相を含む複雑な光学振幅のスペクトル） - 時間平均および時間発展-
- 強度スペクトル（光学強度のスペクトル） - 時間平均および時間発展 -
- RIN (Relative Intensity Noise: 相対強度雑音)
- 振幅変調 AM（Amplitude Modulation） / 周波数変調 FM (Frequency Modulation)
- アイ・ダイアグラム
- 閾値と微分効率測定を使用したLI曲線
- 群遅延と群速度分散スペクトル
- 縦/横方向のプロファイル（電流の広がり、キャリア密度、光パワー、電流分布）

‣  Building Block System
PDAFlowを利用して、回路設計をMaskEngineerやNazcaなどのレイアウトツールにエクスポートが可能で、
マスクをほぼ自動的に生成し、レイアウト設計ルールをチェックすることも可能です。

‣ InP Design Kits - JePPIX
PICWaveはSmartPhotonicsおよびFhGHeinrich HertzInstitutのInPベースのデザインキットライブラリを提供しています。
これらのデザインキットは、JePPIXプラットフォームのユーザーが利用することが出来ます。

‣  Link to FIMMPROP
有限インパルス応答（FIR）セクションを使用して、パッシブコンポーネント（テーパー、MMI、jジャンクションなど）の
詳細なモデルを光回路シミュレーションにインポートすることが可能です。
FIMMPROPなどの周波数領域Maxwellソルバーソフトウェアの機能を利用し、コンポーネントの波長応答（散乱行列スペクトル）をFIMMPROPで厳密に計算した後、PICWaveにインポートして計算することも可能です。

‣  Link to EPIPPROP
Epippropで計算されたAWGおよびEchelle回折格子のシミュレーション結果をPICWaveにインポートすることが可能です。
AWG /エシェル回折格子の動作を再現する時間領域コンポーネントモデルをPICWave作成し、
時間領域回路シミュレーションに組み込むことが出来ます。